VDI VDI 2083 BLATT 7 PDF

Diese Richtlinie gilt für Reinstmedien verschiedener Art, insbesondere:

• Chemikalien

• Gase

• Druckluft

• Dampf

Reinstmedien kommen in Reinsttechnologien vor, z. B. in der Halbleiterfertigung, Fotovoltaik/Solartechnik, Faseroptik, Mikromechanik, Life-Science- Industrie und vergleichbaren Branchen. Ziel ist es, eine Verringerung der Reinheit zwischen Medienanlieferung (POS) und -eingang beim Verbraucher (POE) auszuschließen oder nur in einem zulässigen, definierten Bereich zuzulassen. Die Produktions- und Lieferkette vor Anlieferung (POS) sowie die Lagerung der Medien werden in dieser Richtlinie nicht ausführlich betrachtet.

Anwendungen in der Life-Science-Industrie und in vergleichbaren Branchen unterscheiden sich von den anderen Industrien hauptsächlich dadurch, dass besondere gesetzliche Regelungen bei der Realisierung der Versorgungssysteme zu beachten sind (z. B. Euro-päisches Arzneibuch, United States Pharmacopeia, EG-GMP-Leitfaden).

Diese Richtlinie gilt nicht für medizinische Gase und Luft zur medizinischen Anwendung, weil diese als Arzneimittel gelten. Sie gilt ebenfalls nicht für Atemluft im Sinne des Personenschutzes.

Halbleiter- und Solarzellenfertigungen verwenden als Reinstmedien hauptsächlich Chemikalien, Gase und Druckluft.

Zweck dieser Richtlinie ist die Zusammenfassung des Wissens bezüglich Planung, Bau, Betrieb und Überwachung von Reinstmedien-Versorgungssystemen. Die Richtlinie soll Planer, Systemlieferanten und Betreiber in ihrer Arbeit unterstützen.

Die Reinheit bezieht sich auf die Restverunreinigung mit Partikeln, Kationen, Anionen, TOC und anderen spezifischen Komponenten (z. B. Fremdgase, Feuchte) sowie die Kontamination von Reinstmedien mit Keimen.

Die bei Planung, Bau und Betrieb von Reinstmedien- Versorgungssystemen geltenden Sicherheitsvorschriften und -empfehlungen sind nicht Gegenstand dieser Richtlinie. Sollten an verschiedenen Stellen Hinweise auf Sicherheitsvorschriften gegeben werden, so ist zu beachten, dass diese nicht zwangsläufig vollständig sind.

Diese Richtlinie macht keine endgültigen Angaben bezüglich festgelegter Reinheitsanforderungen; diese sind hinsichtlich der unterschiedlichen Anwendungen mit dem jeweiligen Anwender, unter Berücksichtigung eventuell zutreffender gesetzlicher Regelungen, zu definieren.

Die Aufreinigung von Prozessmedien ist eine Komponente des reinen Arbeitens. Die Reinheit der Prozessmedien wird durch eine Vielzahl möglicher Kontaminationsquellen beeinflusst. In der vorliegenden Richtlinie wird vor allem der Einfluss partikulärer und mikrobieller Kontaminationen bewertet.

Reinstmedien werden in dieser Richtlinie nur als Hilfsstoffe und Einsatzstoffe für einen Produktionsprozess beschrieben. Das in einem solchen Produktionsprozess hergestellte Fluid selbst ist nicht Gegenstand dieser Richtlinie.

Die Partikelreinheit der in Reinräumen gefertigten Produkte ist nicht Gegenstand dieser Richtlinie.

Die technische Aufgabe besteht darin, sicherzustellen, dass ein vorgegebener Grenzwert der Kontamination am jeweiligen Messpunkt in der Summe nicht überschritten wird. Im Sinne dieser Aufgabe werden Ausgangsstoffe, Behälter, Anlagen und Filter ausgelegt und auf ihre Gebrauchstüchtigkeit hin qualifiziert. Diese Richtlinie enthält keine Klassifizierung der Reinheit von Prozessmedien, sondern gibt lediglich Hinweise für eine mögliche Klassifizierung der Reinheit für Druckluft.

Für die Qualifizierung der partikulären und mikrobiellen Reinheit beschreibt die vorliegende Richtlinie standardisierbare Messverfahren und gibt Hinweise zur Sicherung der geforderten Reinheitsbedingungen. Die Anwendung dieser Messtechniken wird für die Überprüfung von Anlagen für die Prozessmedienversorgung sowie für die Prüfung von Handelsprodukten erläutert. Im Hinblick auf die Absicherung der Partikelreinheit von Prozessmedien am Gebrauchspunkt werden Ausrüstungen, Betrieb und Prüfverfahren der Mikrofiltration behandelt.

Systemgrenzen im Sinne dieser Richtlinie sind der Anlieferungspunkt einerseits und die Verwendungsstelle des Mediums andererseits, siehe auch Bild 4.